ライン上でのガラスは不均一な加熱を許さない。
一箇所でも過熱スポットがあれば、熱応力による亀裂を追いかけることになる。冷却ゾーンがあれば、曲げ形状が崩れたり、コーティングが斑になる。だから、ガラス成形用の赤外線エミッターは単なる熱源ではなく、歩留まりを守るために制御可能な熱場として設計されている。
これらのエミッターは短波赤外線を基本に構成しており、高放射率の石英素子を使用しているため、応答が速く温度の再現性が高い。結果として、対流流れに影響されず、ガラス幅方向にわたって均一な熱プロファイルを実現できる。出力密度はガラス板の熱容量に合わせて調整されており、立ち上がりが速く過熱を防止する。実際には、微細な亀裂、光学歪み、反りを減らすことができる。これはガラスがサイクルごとに同一の加熱曲線を体験するためである。
テンパリング、曲げ加工、コーティングの乾燥工程において、均一な加熱が最も重要である。熱場が均一であれば、応力は予測可能に蓄積し制御範囲内に収まる。スクラップ率を上げることなく処理能力を向上させられる。エネルギー消費も、エミッターが空気ではなく直接ガラスを加熱するため低減される。さらに、同一のプロファイルを繰り返すため、稼働率も向上する。
設置は比較的簡単だが、アライメントは必須である。リフレクター、クリアランス、エミッター間隔はガラスの通過経路に正確に合わせる必要がある。さもなければ、端部から中央への温度差が再び発生する。これらのユニットは標準的な取り付け寸法に適合するものの、安定した電源と適切な冷却が必要である。エアフローと電圧の安定性は長期的な出力の一貫性に直接影響する。事前にこれらを計画しておけば、検査工程での予期せぬ不良を減らし、繰り返し可能なガラス成形が可能となる。